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C-43型 9英寸 高精度國(guó)產(chǎn)光刻機(jī) 多點(diǎn)光源曝光頭是一款專(zhuān)用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件以及聲表面波器件的研制和生產(chǎn)的優(yōu)良設(shè)備。其出色之處在于其高度優(yōu)良的找平機(jī)構(gòu)，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)多種材料的高精度曝光，包括硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片和寶石片等

C-43型多點(diǎn)光源曝光頭高精度國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)主要用途是在中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件和聲表面波器件的研制和生產(chǎn)中使用。C-43的出色之處在于其先進(jìn)的找平機(jī)構(gòu)，這使得它適用于對(duì)不同類(lèi)型的材料進(jìn)行曝光，包括硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片和寶石片等。

C-33型 國(guó)產(chǎn)雙面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備被廣泛應(yīng)用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、以及聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。它的高級(jí)找平機(jī)構(gòu)使其適用于各種材料的曝光，包括硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片等。雙面對(duì)準(zhǔn)單面曝光：這臺(tái)機(jī)器具備雙面對(duì)準(zhǔn)單面曝光功能，可以在一個(gè)工藝中對(duì)準(zhǔn)并曝光兩側(cè)，提高了生產(chǎn)效率。普通光刻機(jī)工作：除了雙面對(duì)準(zhǔn)單面曝光，它還可以執(zhí)行普通光刻機(jī)的各種工作任務(wù)。

C-33型 4英寸 國(guó)產(chǎn)高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)先進(jìn)，找平力小、使本機(jī)適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片等的曝光。這是一臺(tái)雙面對(duì)準(zhǔn)單面曝光的光刻機(jī)；這臺(tái)機(jī)器又能完成普通光刻機(jī)的任何工作；同時(shí)又是一臺(tái)檢查雙面對(duì)準(zhǔn)精度的檢查儀。

C-31型 雙面國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)先進(jìn)，找平力小、使本機(jī)適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片等的曝光。有三種版夾盤(pán)供選擇，能真空吸附5“×5“或4“×4“方形掩版（2.5“×2.5“），版的厚度無(wú)特殊要求1.5~3mm皆可。分別用于φ4、φ3、φ2基片的曝光。基片厚度0.1~1mm都可以。

C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)本機(jī)針對(duì)各大專(zhuān)院校、企業(yè)及科研單位。對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機(jī)，三層減震，組合式，拆卸方便。 它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)，適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光，而且也適合易碎片如:砷化鉀、磷化銦的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。

C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻設(shè)備針對(duì)各大專(zhuān)院校、企業(yè)及科研單位。對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機(jī)，三層減震，組合式，拆卸方便。 它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)，適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光，而且也適合易碎片如:砷化鉀、磷化銦的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。

C-25XA型 4英寸/6英寸 高精度對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)針對(duì)各大專(zhuān)院校、企業(yè)及科研單位。對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度的光刻機(jī)，三層減震，組合式，拆卸方便。 它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)，適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光，而且也適合易碎片如:砷化鉀、磷化銦的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。